高分子の自己組織化現象を活用したナノパターニング基本技術を開発

	(10/10) 高分子の自己組織化現象を活用したナノパターニング基本技術を開発【日立製作所】 http://www.hitachi.co.jp/New/cnews/month/2008/10/1010.html

	リソグラフィで形成する微細ドットパターンを9倍に高密度化することに成功国立大学法人京都大学(総長:松本　紘／以下、京大)と、株式会社日立製作所(執行役社長:古川　一夫／以下、日立)は、分子が自然に集合して微細なパターンを形成する自己組織化現象を活用することで、微細ドットパターンの高密度化を実現する、ナノパターニング基本技術を開発しました。ナノパターニング技術は、半導体などの基板表面に微細なパターンを形成するリソグラフィ技術*1の一つで、従来と比べ、より微細なパターンを形成できる可能性があることから、電…

(10/10) 高分子の自己組織化現象を活用したナノパターニング基本技術を開発 【日立製作所】